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Université Jean Monnet – Saint-Etienne |  |
Conference papers
TEM analysis of ion plated HfO2/SiO2 multilayers for femtosecond lasers
1
LHC - Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne] (18 rue du Professeur Lauras 42000 SAINT-ETIENNE - France)
- UJM - Université Jean Monnet [Saint-Étienne] (10 rue Tréfilerie - 42100 Saint-Étienne - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR5516 (France)
- IOGS - Institut d'Optique Graduate School (2 avenue Augustin Fresnel, 91127 Palaiseau Cedex - France)
2
LPN - Laboratoire de photonique et de nanostructures (Route de Nozay 91460 MARCOUSSIS - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UPR20 (France)
3
IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520 (Laboratoire Central – Cité Scientifique – Avenue Poincaré – CS 60069 – 59652 VILLENEUVE D’ASCQ CEDEX - France)
- Ecole Centrale de Lille (Cité Scientifique - CS 20048 59651 Villeneuve d'Ascq Cedex - France)
- Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN) (France)
- UPHF - Université Polytechnique Hauts-de-France (Campus Mont Houy 59313 Valenciennes Cedex 9 - France)
- Université de Lille (Lille - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR8520 (France)
- UPHF - Université Polytechnique Hauts-de-France (Campus Mont Houy 59313 Valenciennes Cedex 9 - France)
Document type :
Conference papers
Domain :
Complete list of metadatas
https://hal-ujm.archives-ouvertes.fr/ujm-00290782
Contributor : Manuel Flury <>
Submitted on : Thursday, June 26, 2008 - 2:38:13 PM
Last modification on : Monday, March 2, 2020 - 1:38:04 PM
Contributor : Manuel Flury <>
Submitted on : Thursday, June 26, 2008 - 2:38:13 PM
Last modification on : Monday, March 2, 2020 - 1:38:04 PM
Identifiers
- HAL Id : ujm-00290782, version 1
Collections
UNIV-ST-ETIENNE | CNRS | LAHC | UNIV-LILLE | IOGS | PARISTECH | UNIV-VALENCIENNES | UDL
Citation
Manuel Flury, Gilles Patriache, David Troadec, Olivier Parriaux. TEM analysis of ion plated HfO2/SiO2 multilayers for femtosecond lasers. 7th Symposium SiO2, advanced dielectrics and related devices, Jul 2008, France. p. ⟨ujm-00290782⟩
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