The effect of deposition and annealing conditions on crystallographic properties of sputter barium ferrite thick films - Université Jean-Monnet-Saint-Étienne

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Article Dans Une Revue Sensors and Actuators A: Physical Année : 2002

The effect of deposition and annealing conditions on crystallographic properties of sputter barium ferrite thick films

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B. Bayard

Fonction : Auteur
PersonId : 10187
IdHAL : bernard-bayard-univ-st-etienne-fr
ORCID : 0000-0002-7294-8226
IdRef : 060454253

Dispositifs et Instrumentation en Optoélectronique et micro-ondes

Jean-Pierre Chatelon

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IdHAL : jean-pierre-chatelon
IdRef : 136271499

Dispositifs et Instrumentation en Optoélectronique et micro-ondes

M. Le Berre

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ORCID : 0000-0003-4935-7951
IdRef : 084065826

Laboratoire de physique de la matière

Hélène Joisten

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Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

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Dispositifs et Instrumentation en Optoélectronique et micro-ondes

Damien Barbier

Fonction : Auteur

Laboratoire de physique de la matière

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Jean-Pierre Chatelon : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://ujm.hal.science/ujm-00356482

Soumis le : mardi 27 janvier 2009-15:43:43

Dernière modification le : mercredi 3 avril 2024-11:14:12

Dates et versions

ujm-00356482 , version 1 (27-01-2009)

Identifiants

HAL Id : ujm-00356482 , version 1
DOI : 10.1016/S0924-4247(01)00888-3

Citer

B. Bayard, Jean-Pierre Chatelon, M. Le Berre, Hélène Joisten, J.J. Rousseau, et al.. The effect of deposition and annealing conditions on crystallographic properties of sputter barium ferrite thick films. Sensors and Actuators A: Physical , 2002, 99 (1-2), pp.207-212. ⟨10.1016/S0924-4247(01)00888-3⟩. ⟨ujm-00356482⟩

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