Flying phase mask for the printing of long submicron-period stitchingless gratings - Université Jean-Monnet-Saint-Étienne Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2006

Flying phase mask for the printing of long submicron-period stitchingless gratings

S. Pelissier
R. Min
  • Fonction : Auteur
S. Reynaud

Résumé

Long and stitchingless gratings are printed by means of a read/write head comprising a phase mask illuminated by an intensity modulated laser beam and a reference grating displacement sensor which dictates the modulation period real time. A nearly perfect grating copying is achieved by fixing the sensor grating scale and the written grating substrate on a long platform sliding under the read/write head
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flying_phase_mask_MNE.pdf (166.11 Ko) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)
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Dates et versions

ujm-00358901 , version 1 (05-02-2009)

Identifiants

Citer

E. Gamet, Y. Jourlin, S. Pelissier, R. Min, S. Reynaud, et al.. Flying phase mask for the printing of long submicron-period stitchingless gratings. Microelectronic Engineering, 2006, 83 (4-9), pp.734-737. ⟨10.1016/j.mee.2006.01.002⟩. ⟨ujm-00358901⟩
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