100 nm period grating writing by high index phase mask immersion lithography

Yannick Bourgin 1 Yves Jourlin 1 Olivier Parriaux 1 Svetlen Tonchev 1, 2 Anne Talneau 3 Colette Veillas 1
1 LHC - Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne]
2 ISSP - Institute of Solid State Physics
3 LPN - Laboratoire de photonique et de nanostructures
Keywords : nanostructure fabrication diffraction grating immersion lithography
Type de document :
Communication dans un congrès
35th Micro Nano Engineering (MNE), Sep 2009, Gand, Belgium. pp.P-LITH-51, 2009
Liste complète des métadonnées
https://hal-ujm.archives-ouvertes.fr/ujm-00477277
Contributeur : Yannick Bourgin <>
Soumis le : mercredi 28 avril 2010 - 15:36:04
Dernière modification le : jeudi 11 janvier 2018 - 06:20:35

Identifiants

  • HAL Id : ujm-00477277, version 1

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Citation

Yannick Bourgin, Yves Jourlin, Olivier Parriaux, Svetlen Tonchev, Anne Talneau, et al.. 100 nm period grating writing by high index phase mask immersion lithography. 35th Micro Nano Engineering (MNE), Sep 2009, Gand, Belgium. pp.P-LITH-51, 2009. 〈ujm-00477277〉

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