100 nm period grating writing by high index phase mask immersion lithography

Type de document :
Communication dans un congrès
35th Micro Nano Engineering (MNE), Sep 2009, Gand, Belgium. pp.P-LITH-51, 2009
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Contributeur : Yannick Bourgin <>
Soumis le : mercredi 28 avril 2010 - 15:36:04
Dernière modification le : mercredi 25 juillet 2018 - 14:05:31

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  • HAL Id : ujm-00477277, version 1

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Citation

Yannick Bourgin, Yves Jourlin, Olivier Parriaux, Svetlen Tonchev, Anne Talneau, et al.. 100 nm period grating writing by high index phase mask immersion lithography. 35th Micro Nano Engineering (MNE), Sep 2009, Gand, Belgium. pp.P-LITH-51, 2009. 〈ujm-00477277〉

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