100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography

Type de document :
Article dans une revue
Optics Express, Optical Society of America, 2010, 18 (10), pp.10557-10566
Liste complète des métadonnées

https://hal-ujm.archives-ouvertes.fr/ujm-00481902
Contributeur : Yannick Bourgin <>
Soumis le : vendredi 7 mai 2010 - 15:20:52
Dernière modification le : mercredi 25 juillet 2018 - 14:05:31

Identifiants

  • HAL Id : ujm-00481902, version 1

Citation

Yannick Bourgin, Yves Jourlin, Olivier Parriaux, Anne Talneau, Svetlen Tonchev, et al.. 100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography. Optics Express, Optical Society of America, 2010, 18 (10), pp.10557-10566. 〈ujm-00481902〉

Partager

Métriques

Consultations de la notice

219