100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography

Yannick Bourgin; Yves Jourlin; Olivier Parriaux; Anne Talneau; Svetlen Tonchev; Colette Veillas; P. Karvinen; Nicolas Passilly; Ahmad Md Zain; R.M. De La Rue; Jurgen Van Erps; David Troadec

100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography

Yannick Bourgin ¹ Yves Jourlin ¹ Olivier Parriaux ¹ Anne Talneau ² Svetlen Tonchev ^{1, 3} Colette Veillas ¹ P. Karvinen ⁴ Nicolas Passilly ⁵ Ahmad Md Zain ⁶ R.M. De La Rue ⁷ Jurgen Van Erps ⁸ David Troadec ⁹

1 LHC - Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne]

2 LPN - Laboratoire de photonique et de nanostructures

3 ISSP - Institute of Solid State Physics

4 JOE - University of Joensuu, Department of Physics and Mathematics

5 FEMTO-ST - Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174)

6 Photonics Research Group, Centre for Communication,

7 Dpt of Electronics & Electrical Engineering

8 TONA - Department of Applied Physics and Photonics [Brussels]

9 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Keywords : Nanostructure fabrication Diffraction gratings Subwavelength structures Lithography Nanostructure fabrication.

Type de document :

Article dans une revue

Optics Express, Optical Society of America, 2010, 18 (10), pp.10557-10566

Domaine :

Sciences de l'ingénieur [physics] / Optique / photonique

Liste complète des métadonnées

https://hal-ujm.archives-ouvertes.fr/ujm-00481902
Contributeur : Yannick Bourgin <>
Soumis le : vendredi 7 mai 2010 - 15:20:52
Dernière modification le : samedi 13 octobre 2018 - 01:05:28

100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography

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