Nanostructure formation upon femtosecond ablation from silicon: Effect of double pulses - Université Jean-Monnet-Saint-Étienne Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Surface Science Année : 2012

Dates et versions

ujm-00738935 , version 1 (05-10-2012)

Identifiants

Citer

J. Reif, O. Varlamova, M. Bounhalli, M. Muth, T. Arguirov. Nanostructure formation upon femtosecond ablation from silicon: Effect of double pulses. Applied Surface Science, 2012, 258 (23), pp.9491-9495. ⟨10.1016/j.apsusc.2011.12.093⟩. ⟨ujm-00738935⟩
22 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More