Nanostructure formation upon femtosecond ablation from silicon: Effect of double pulses

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Applied Surface Science, Elsevier, 2012, 258 (23), pp.9491-9495. 〈10.1016/j.apsusc.2011.12.093〉
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Contributeur : Florence Garrelie <>
Soumis le : vendredi 5 octobre 2012 - 13:53:31
Dernière modification le : mercredi 25 juillet 2018 - 14:05:31

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J. Reif, O. Varlamova, M. Bounhalli, M. Muth, T. Arguirov. Nanostructure formation upon femtosecond ablation from silicon: Effect of double pulses. Applied Surface Science, Elsevier, 2012, 258 (23), pp.9491-9495. 〈10.1016/j.apsusc.2011.12.093〉. 〈ujm-00738935〉

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