Influence of argon flow rate on YIG film deposited by Radio-frequency reactive magnetron sputtering

Type de document :
Communication dans un congrès
Seeheim Conference on Magnetism, Mar 2010, Frankfurt, Germany
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Contributeur : Jean-Pierre Chatelon <>
Soumis le : vendredi 1 mars 2013 - 09:33:49
Dernière modification le : dimanche 15 octobre 2017 - 22:44:13

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  • HAL Id : ujm-00795868, version 1

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Citation

B. Abdel Samad, M.-F. Blanc-Mignon, Mohamad Roumie, Jean-Pierre Chatelon, A. Siblini, et al.. Influence of argon flow rate on YIG film deposited by Radio-frequency reactive magnetron sputtering. Seeheim Conference on Magnetism, Mar 2010, Frankfurt, Germany. 〈ujm-00795868〉

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