Sub-micrometric patterns written using a DIL method coupled to a TiO2 photo-resist.

V. Gâté (1, 2) , Yves Jourlin (1) , Francis Vocanson (1) , O. Dellea (3) , G. Vercasson (1) , S. Reynaud (1) , D. Riassetto (2) , Michel Langlet (2)

1 LHC - Laboratoire Hubert Curien
2 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique
3 LITEN - Laboratoire d'Innovation pour les Technologies des Energies Nouvelles et les nanomatériaux

Domaines: Matériaux; Optique / photonique

V. Gâté, Yves Jourlin, Francis Vocanson, O. Dellea, G. Vercasson, et al.. Sub-micrometric patterns written using a DIL method coupled to a TiO2 photo-resist.. Optical Materials, 2013, 35, pp.1706. ⟨10.1016/j.optmat.2013.05.010⟩. ⟨ujm-00842557⟩