Sub-micrometric patterns written using a DIL method coupled to a TiO2 photo-resist.

V. Gâté; Yves Jourlin; Francis Vocanson; O. Dellea; G. Vercasson; S. Reynaud; D. Riassetto; Michel Langlet

doi:10.1016/j.optmat.2013.05.010

Sub-micrometric patterns written using a DIL method coupled to a TiO2 photo-resist.

V. Gâté ^{1, 2} Yves Jourlin ¹ Francis Vocanson ¹ O. Dellea ³ G. Vercasson ¹ S. Reynaud ¹ D. Riassetto ² Michel Langlet ^{2, *}

* Auteur correspondant

1 LHC - Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne]

2 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique

3 LITEN - Laboratoire d'Innovation pour les Technologies des Energies Nouvelles et les nanomatériaux

Type de document :

Article dans une revue

Optical Materials, Elsevier, 2013, 35, pp.1706. 〈10.1016/j.optmat.2013.05.010〉

Domaine :

Sciences de l'ingénieur [physics] / Matériaux

Sciences de l'ingénieur [physics] / Optique / photonique

Liste complète des métadonnées

https://hal-ujm.archives-ouvertes.fr/ujm-00842557
Contributeur : Francis Vocanson <>
Soumis le : lundi 8 juillet 2013 - 17:12:42
Dernière modification le : lundi 11 février 2019 - 16:48:15

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