Sub-micrometric patterns written using a DIL method coupled to a TiO2 photo-resist.

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Optical Materials, Elsevier, 2013, 35, pp.1706. 〈10.1016/j.optmat.2013.05.010〉
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Contributeur : Francis Vocanson <>
Soumis le : lundi 8 juillet 2013 - 17:12:42
Dernière modification le : mercredi 25 juillet 2018 - 14:05:31

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V. Gâté, Yves Jourlin, Francis Vocanson, O. Dellea, G. Vercasson, et al.. Sub-micrometric patterns written using a DIL method coupled to a TiO2 photo-resist.. Optical Materials, Elsevier, 2013, 35, pp.1706. 〈10.1016/j.optmat.2013.05.010〉. 〈ujm-00842557〉

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