La photolithographie colloïdale, une technique adaptée à différentes géométries de substrats et à différentes épaisseurs de couches photogravables.

Loic Berthod 1, 2 Olga Shavdina 1, 3 C. Veillas 1 I. Verrier 4 Michel Langlet 2 Francis Vocanson 1 O. Dellea 3 Yves Jourlin 1, *
* Corresponding author
1 LHC - Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne]
2 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique
3 LITEN - Laboratoire d'Innovation pour les Technologies des Energies Nouvelles et les nanomatériaux
4 Laboratoire Hubert Curien / Eris
LHC - Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne]
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Conference papers
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https://hal-ujm.archives-ouvertes.fr/ujm-01293492
Contributor : Francis Vocanson <>
Submitted on : Thursday, March 24, 2016 - 6:04:29 PM
Last modification on : Monday, July 8, 2019 - 11:26:04 AM

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  • HAL Id : ujm-01293492, version 1

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Loic Berthod, Olga Shavdina, C. Veillas, I. Verrier, Michel Langlet, et al.. La photolithographie colloïdale, une technique adaptée à différentes géométries de substrats et à différentes épaisseurs de couches photogravables.. 12ème journée Sol-Gel Rhône-Alpes Auvergne (JSGRAA12), Mar 2016, SAINT-ETIENNE, France. ⟨ujm-01293492⟩

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