La photolithographie colloïdale, une technique adaptée à différentes géométries de substrats et à différentes épaisseurs de couches photogravables.

Loic Berthod 1, 2 Olga Shavdina 1, 3 C. Veillas 1 I. Verrier 4 Michel Langlet 2 Francis Vocanson 1 O. Dellea 3 Yves Jourlin 1, *
* Auteur correspondant
1 LHC - Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne]
2 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique
3 LITEN - Laboratoire d'Innovation pour les Technologies des Energies Nouvelles et les nanomatériaux
4 Laboratoire Hubert Curien / Eris
LHC - Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne]
Type de document :
Communication dans un congrès
12ème journée Sol-Gel Rhône-Alpes Auvergne (JSGRAA12), Mar 2016, SAINT-ETIENNE, France
Liste complète des métadonnées
https://hal-ujm.archives-ouvertes.fr/ujm-01293492
Contributeur : Francis Vocanson <>
Soumis le : jeudi 24 mars 2016 - 18:04:29
Dernière modification le : jeudi 26 juillet 2018 - 01:10:44

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  • HAL Id : ujm-01293492, version 1

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Citation

Loic Berthod, Olga Shavdina, C. Veillas, I. Verrier, Michel Langlet, et al.. La photolithographie colloïdale, une technique adaptée à différentes géométries de substrats et à différentes épaisseurs de couches photogravables.. 12ème journée Sol-Gel Rhône-Alpes Auvergne (JSGRAA12), Mar 2016, SAINT-ETIENNE, France. 〈ujm-01293492〉

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