On the validity of continuum computational fluid dynamics approach in very low pressure plasma spray conditions

Dmitrii Ivchenko; T. Zhang; Gilles Mariaux; Armelle Vardelle; Simon Goutier; Tatiana Itina

On the validity of continuum computational fluid dynamics approach in very low pressure plasma spray conditions

Dmitrii Ivchenko T. Zhang Gilles Mariaux ¹ Armelle Vardelle ¹ Simon Goutier ¹ Tatiana Itina ²

1 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

2 LHC - Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne]

Type de document :

Communication dans un congrès

ITSC17, Dusseldorf, Germany, June 2017, Jun 2017, Dusseldorf, Germany

Domaine :

Sciences de l'ingénieur [physics] / Génie des procédés

Sciences de l'ingénieur [physics]

Physique [physics]

Liste complète des métadonnées

https://hal-ujm.archives-ouvertes.fr/ujm-01616580
Contributeur : Tatiana Itina <>
Soumis le : vendredi 13 octobre 2017 - 18:44:57
Dernière modification le : jeudi 26 juillet 2018 - 01:10:33

On the validity of continuum computational fluid dynamics approach in very low pressure plasma spray conditions

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Métriques

70

Contact

On the validity of continuum computational fluid dynamics approach in very low pressure plasma spray conditions

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Partager

Métriques

70

Contact