Validity of the continuum approach in the midelling of very low-pressure plasma spraying - Université Jean-Monnet-Saint-Étienne Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2017

Validity of the continuum approach in the midelling of very low-pressure plasma spraying

Tiantian Zhang
  • Fonction : Auteur
Dmitrii Ivchenko
  • Fonction : Auteur
Gilles Mariaux
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 925439
Axe 2 : procédés plasmas et lasers
Armelle Vardelle
Axe 2 : procédés plasmas et lasers
Simon Goutier
Axe 2 : procédés plasmas et lasers
CV
Tatiana Itina
Laboratoire Hubert Curien
CV

Domaines

Génie des procédés Sciences de l'ingénieur [physics] Physique [physics]

Tatiana Itina  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://ujm.hal.science/ujm-01616582

Soumis le : vendredi 13 octobre 2017-18:47:10

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15

Fichier non déposé

Dates et versions

ujm-01616582 , version 1 (13-10-2017)

Identifiants

  • HAL Id : ujm-01616582 , version 1

Citer

Tiantian Zhang, Dmitrii Ivchenko, Gilles Mariaux, Armelle Vardelle, Simon Goutier, et al.. Validity of the continuum approach in the midelling of very low-pressure plasma spraying. ISPC, Montreal, Canada, August 2017, Aug 2017, Montreal, Canada. ⟨ujm-01616582⟩

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