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Journal articles

The effect of deposition and annealing conditions on crystallographic properties of sputter barium ferrite thick films

B. Bayard 1 Jean-Pierre Chatelon 1 M. Le Berre 2 Hélène Joisten 3 J.J. Rousseau 1 Damien Barbier 2 
1 DIOM - Dispositifs et Instrumentation en Optoélectronique et micro-ondes
2 LPM - Laboratoire de physique de la matière
3 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
Document type :
Journal articles
Complete list of metadata
https://hal-ujm.archives-ouvertes.fr/ujm-00356482
Contributor : Jean-Pierre Chatelon Connect in order to contact the contributor
Submitted on : Tuesday, January 27, 2009 - 3:43:43 PM
Last modification on : Thursday, September 2, 2021 - 12:08:35 PM

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UNIV-ST-ETIENNE | CEA | CNRS | INSA-LYON | DRT | LETI | INSA-GROUPE | CEA-GRE | UDL

Citation

B. Bayard, Jean-Pierre Chatelon, M. Le Berre, Hélène Joisten, J.J. Rousseau, et al.. The effect of deposition and annealing conditions on crystallographic properties of sputter barium ferrite thick films. Sensors and Actuators A: Physical , Elsevier, 2002, 99 (1-2), pp.207-212. ⟨10.1016/S0924-4247(01)00888-3⟩. ⟨ujm-00356482⟩

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