Validity of the continuum approach in the midelling of very low-pressure plasma spraying

Type de document :
Communication dans un congrès
ISPC, Montreal, Canada, August 2017, Aug 2017, Montreal, Canada
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Contributeur : Tatiana Itina <>
Soumis le : vendredi 13 octobre 2017 - 18:47:10
Dernière modification le : jeudi 26 juillet 2018 - 01:11:22

Identifiants

  • HAL Id : ujm-01616582, version 1

Citation

T. Zhang, Dmitrii Ivchenko, Gilles Mariaux, Armelle Vardelle, Simon Goutier, et al.. Validity of the continuum approach in the midelling of very low-pressure plasma spraying. ISPC, Montreal, Canada, August 2017, Aug 2017, Montreal, Canada. 〈ujm-01616582〉

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