Validity of the continuum approach in the midelling of very low-pressure plasma spraying

T. Zhang; Dmitrii Ivchenko; Gilles Mariaux; Armelle Vardelle; Simon Goutier; Tatiana Itina

Validity of the continuum approach in the midelling of very low-pressure plasma spraying

T. Zhang Dmitrii Ivchenko Gilles Mariaux ¹ Armelle Vardelle ¹ Simon Goutier ¹ Tatiana Itina ²

1 SPCTS-AXE2 - Axe 2 : procédés plasmas et lasers

SPCTS - Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface

2 LHC - Laboratoire Hubert Curien [Saint Etienne]

Type de document :

Communication dans un congrès

ISPC, Montreal, Canada, August 2017, Aug 2017, Montreal, Canada

Domaine :

Sciences de l'ingénieur [physics] / Génie des procédés

Sciences de l'ingénieur [physics]

Physique [physics]

Liste complète des métadonnées

https://hal-ujm.archives-ouvertes.fr/ujm-01616582
Contributeur : Tatiana Itina <>
Soumis le : vendredi 13 octobre 2017 - 18:47:10
Dernière modification le : mercredi 14 février 2018 - 16:29:35

Validity of the continuum approach in the midelling of very low-pressure plasma spraying

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Métriques

45

Contact

Validity of the continuum approach in the midelling of very low-pressure plasma spraying

Identifiants

Collections

Citation

Exporter

Partager

Métriques

45

Contact